行业定义
PVD（物理气相沉积）是一种用于在物体表面沉积薄膜的技术，通过将材料蒸发并在真空环境中沉积到基材表面来实现涂层。PVD技术广泛应用于电子、光学、医疗器械和工具制造等领域。常见的PVD工艺包括蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀膜等。PVD技术的主要优势包括高硬度、耐磨性、抗腐蚀性，并且在涂层的颜色、厚度和均匀性方面具有很好的可控性。
从政策环境的角度来看，我国对PVD设备高度重视，主要体现在支持半导体设备发展的相关政策上。例如，在《“十三五”国家科技创新规划》中，薄膜设备（如PVD设备、CVD设备等）被列为国家重点攻关的高端制造装备；同时，在《国家高新技术产业开发区“十三五”规划》中也明确提出，要推动集成电路关键装备的核心技术突破与应用。
PVD设备市场主要得益于光电子行业的迅速发展。随着显示技术的持续创新，如有机发光二极管（OLED）和柔性显示技术的进步，对高质量、高性能光学薄膜的需求不断上升，推动了PVD设备市场的扩展。此外，半导体行业对PVD设备的需求也在不断增长，因为PVD设备能够用于制备金属薄膜、氮化硅薄膜、硼化硅薄膜等关键材料，广泛应用于集成电路的生产中。
PVD（物理气相沉积）和 PVD 设备的产业链可以根据材料、设备制造和应用领域进行上、中、下游的细分。
上游产业链
原材料供应：上游产业主要包括 PVD 工艺所需的材料供应商，如金属靶材（钛、铬、铝等）、陶瓷靶材（氮化钛、氧化铝等）以及一些用于镀膜过程中的气体（如氮气、氩气、氢气等）。
零部件供应：包括用于制造 PVD 设备的关键组件和材料，如真空泵、离子源、电源系统、气体控制系统和靶材冷却系统等。这些零部件的质量和性能直接影响 PVD 设备的效率和稳定性。
中游产业链
PVD 设备制造：中游产业链的核心是 PVD 设备的设计和制造商。它们负责组装和生产用于不同应用领域的 PVD 设备。设备制造商根据不同的工艺要求，提供不同类型的设备（如蒸发镀膜设备、溅射镀膜设备、离子镀设备等）。
设备集成与测试：在设备制造完成后，需要进行集成和调试，以确保设备达到性能要求，并能够稳定运行。这包括真空系统的集成、控制系统的调试、镀膜效果的测试等。
下游产业链
PVD 涂层和设备的下游应用领域非常广泛，主要包括：
电子与半导体：用于制造晶圆、存储器、显示器、触控屏等电子元器件的保护涂层。
工、模具制造：用于切削工具、模具等零部件表面的耐磨涂层，以提高其硬度和耐磨性。
装饰和珠宝行业：用于各种金属表面的装饰涂层，提供多样的颜色和耐久性，比如手表、眼镜框、饰品等。
光学与光伏：用于光学透镜、镜片、光伏电池等产品的反射层或抗反射层。
医疗器械：在手术器械、植入物等设备上涂覆防腐蚀和抗菌涂层，以延长使用寿命并提高安全性。
服务支持
设备维护与售后服务：对于 PVD 设备制造商来说，售后服务是至关重要的一环，包括设备的安装、维护、定期校准和故障维修等，以保证设备的长期稳定运行。
技术支持与培训：PVD 设备和工艺往往需要专业技术支持，制造商通常提供操作培训、工艺优化和咨询等服务，以帮助下游用户提升使用效率和工艺水平。
全球主要的PVD镀膜机制造商包括Applied Materials、ULVAC、Optorun、Buhler Leybold Optics和Shincron等。全球前五名PVD镀膜机制造商约占全球市场总数的74％。亚太地区是全球最大的PVD镀膜机消费市场，约占66％，其次是欧洲和北美。PVD最初的研制主要用于制造人造卫星需要耐磨的零部件，随着其处理技术不断发展，PVD技术的应用范围也开始不断扩展。
目前我国正大力发展半导体、新一代信息产业、新材料、新能源、航天航空等产业，在此背景下真空镀膜行业市场规模有望不断扩大，行业发展前景广阔。
睿兽分析整理近年来PVD相关公司的融资情况，近年来，随着国家对半导体行业的逐步重视，PVD作为芯片行业的前道工序，热度不减，并于去年达到事件数最多30起，融资额则是在22年达到近五年最高73.18亿元。
相关企业
矩阵科技
深圳市矩阵多元科技有限公司成立于2016年12月，是一家专注于薄膜材料制备和高通量材料制备系统开发及应用的国家高新技术企业。公司主营设备包括科研型及生产型薄膜材料制备系统:脉冲激光沉积系统、磁控溅射系统、电子束蒸发系统、分子束外延系统、等离子体增强化学气相沉积系统等。
传统的有机材料基板和TSV技术目前面临着制造成本高、工艺控制难度大、热管理问题突出、高频损耗大、集成密度相对较低等一系列难题。而玻璃基板和TGV有望解决这些挑战，推动芯片设计和制造迈上新台阶。
矩阵多元科技目前专注于半导体先进封装的薄膜沉积工艺，已掌握国际领先的磁控溅射PVD设备的关键技术，具备整机设计、生产和交付能力，并自主研发了溅射阴极系统、面板级封装基片装载系统等多项关键子系统。
公司推出的工业级量产设备DEP600（双枚叶式先进封装溅射PVD设备）用于扇出型面板级封装的种子层金属化，已经获得了国内多家顶级半导体封装厂商的订单，成功打破了核心设备的国际垄断。此外，基于DEP600平台，矩阵多元科技已经完成了用于高深宽比玻璃通孔（TGV）种子层金属化的PVD设备样机的开发，并正在为多家潜在客户进行打样测试。
2024年9月，矩阵科技宣布完成亿元B+轮融资，由中车资本、智慧互联产业基金、前海母基金、国中资本、润信新观象产业基金和毅达资本联合投资，融得资金主要用于新一代先进封装PVD量产设备的研发、产能扩充以及补充流动资金等。
致真设备
合肥致真精密设备有限公司成立于2021年5月，是从事高精度物理气相沉积设备及其关键组件研发和制造的高新技术企业。公司主营产品为国产高端科研级和产业级磁控溅射设备，同时为合作伙伴和客户提供薄膜加工制造、工艺调试、设备软件开发等服务。公司致力于提升高端薄膜沉积设备的自主可控水平，推进产学研深度融合，将先进的科研成果转化为具有竞争力的产品，以解决集成电路行业卡脖子的关键设备和工艺难题。
目前致真设备已形成科研级薄膜制备系统、产业级薄膜制备系统、真空传输平台、超高真空零配件四大产品系列，同时可根据客户需求，开发如自旋、超导量子、MEMS等领域的薄膜工艺菜单。产品广泛应用于芯片制造、新型显示、量子信息、光波导、光伏产业、磁传感器等领域。
据其公众号公开信息，成立3年来目前人员已超50人，2023年销售涨幅达10余倍。
2024年4月，致真设备获得数千万元天使轮投资，本轮融资由航天基金领投，合肥创新投资及国耀资本跟投。所募资金将主要用于产品技术研发、市场拓展及人才招募。
佑伦真空
苏州佑伦真空设备科技有限公司成立于2016年12月，是一家专注半导体薄膜沉积装备的开发和应用的企业，产品主要包括蒸发镀膜机量产机型、真空烧结炉、大容量蒸发镀膜机、小型试验机、溅射机、精密加工业务、耗材业务等，广泛应用于功率器件、LED、光通信、传感器、半导体、滤波器等领域，为高端薄膜沉积领域、PVD薄膜沉积领域、气自动化领域提供解决方案。
佑伦真空的主要业务是与PVD薄膜沉积相关的设备，广泛应用于半导体、LED、滤波器等多个核心领域。业务范围涵盖高端定制型薄膜沉积设备、零部件供应、为行业提供设备耗材以及精密机械加工四大板块，并已具备一定的成本优势和核心技术自主掌控能力。目前，YOULUN佑伦真空已经与国内多家顶尖客户建立了长期紧密的合作关系。同时，YOULUN佑伦真空正在研发和验证溅射机，助力国产PVD薄膜沉积技术的快速发展。
国发创投消息显示，佑伦真空产品应用覆盖了半导体、光学、光伏、科研等多个领域，并逐渐导入士兰微等多家行业头部客户。
2023年5月，佑伦真空获苏创投、国发创投及苏州国发集团联合投资，本轮融资将主要助力新产品研制、市场推广和团队建设等。
热点讯息
2024年10月，光智科技拟购买PVD溅射靶材公司先导电科100%股份 股票复牌
光智科技(300489)10月13日晚间披露重大资产重组预案，公司拟通过发行股份及支付现金方式，购买先导稀材、中金佳泰、青岛越驰、比亚迪、新疆特变等先导电子科技股份有限公司（简称“先导电科”）全体55名股东合计持有的先导电科100%股份，同时拟向不超35名特定投资者发行股票募集配套资金。标的公司致力于先进PVD溅射靶材和蒸镀材料的研发、生产和销售业务，同时也从事高纯稀散金属及化合物的回收提纯、制备和销售业务。
2024年10月，连云港开发区：光伏产业链首台PVD溅射镀膜设备成功下线
近日，位于连云港开发区的江苏先导先进装备科技有限公司生产制造的PVD（即物理气相沉积）三腔体连续式溅射镀膜设备成功交付。江苏先导先进装备科技有限公司相关负责人刘磊介绍，该设备是先导落户连云港后交付的首台光伏设备，其成功下线标志着先导科技成功打通从材料到设备全流程供应链，也意味着连云港光伏产业诞生了首台套成品设备。PVD三腔体连续式溅射镀膜设备研发有助于打通企业材料板块和装备制造板块供应链体系，为中国光伏产业提供一体化解决方案。
2024年7月，给“中国屏”镀上“亦庄膜”！全国首台自研大面积镀膜装备成功签约
7月11日，在北京景昇智鑫科技有限公司与湖南普照信息材料有限公司共同举办的中国首台自主研发的大面积高品质掩模基板PVD镀膜装备签约仪式上，北京经济技术开发区企业北京景昇相关负责人表示。此次合作标志着我国在显示面板关键设备领域取得了重要突破，对推动技术产业国产自主化发展具有深远意义。
2021年06月，国内首款超大产能异质结专用PVD设备发布
21年6月3日，中国电子科技集团有限公司宣布，该集团旗下电科装备成功发布国内首款超大产能异质结专用PVD（物理气相沉积）设备。作为新一代高效异质结太阳能电池生产制造核心装备，其将为我国实现“碳达峰”“碳中和”提供坚实的科技支撑。提效潜力高、降本空间大、工艺流程短等优势，是光伏行业未来的优选方案。电科装备此次推出的异质结专用PVD，突破了可调高磁场强度的旋转阴极系统、大跨度直流脉冲控制系统等关键技术，具有靶材利用率高、成膜均匀性好、设备稳定性高的特点。
2019年12月，打破国外垄断！上方自研G8.6代新型显示PVD装备进入生产状态
据浙江在线报道，上方电子自主研发制造的中国首套国产半导体显示核心装备——8.6代新型显示PVD（物理气相沉积）设备，已于上半年顺利交付该显示屏生产企业，最近正式进入生产状态。上方电子自研的PVD设备从5.5代升级到8.6代，设备的镀膜面积增加了4倍多，涉及的零部件高达1.2万个，需用到物理、机械、机电等六七门交叉学科，在攻克上万个技术难点后，PVD设备实现了功能性纳米薄膜材料在大尺寸玻璃基板上的连续生产，纳米薄膜均匀性在5%以内，材料利用率超过80%，主要指标达到国际先进水平。
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